Blanco de pulverización catódica de tantalio – Disco

El objetivo de pulverización catódica de tantalio se aplica principalmente en la industria de semiconductores y la industria de revestimiento óptico.Fabricamos varias especificaciones de objetivos de pulverización catódica de tantalio a pedido de clientes de la industria de semiconductores y la industria óptica a través del método de fundición de horno EB al vacío.Al tener cuidado con el proceso de laminación único, a través del tratamiento complicado y la temperatura y el tiempo de recocido precisos, producimos diferentes dimensiones de los objetivos de pulverización catódica de tantalio, como objetivos de disco, objetivos rectangulares y objetivos giratorios.Además, garantizamos que la pureza del tantalio está entre el 99,95 % y el 99,99 % o más;el tamaño de grano está por debajo de 100 um, la planitud está por debajo de 0,2 mm y la rugosidad de la superficie está por debajo de Ra.1,6 μm.El tamaño se puede adaptar según los requisitos de los clientes.Controlamos la calidad de nuestros productos a través de la fuente de materia prima hasta toda la línea de producción y finalmente entregamos a nuestros clientes para asegurarnos de que compre nuestros productos con la misma calidad estable en cada lote.

Estamos haciendo todo lo posible para innovar nuestras técnicas, mejorar la calidad del producto, aumentar la tasa de utilización del producto, reducir los costos, mejorar nuestro servicio para suministrar a nuestros clientes productos de mayor calidad pero menores costos de compra.Una vez que nos elija, obtendrá nuestros productos estables de alta calidad, precios más competitivos que otros proveedores y nuestros servicios oportunos y de alta eficiencia.

Producimos objetivos R05200, R05400 que cumplen con el estándar ASTM B708 ​​y podemos hacer objetivos según los dibujos proporcionados.Aprovechando nuestros lingotes de tantalio de alta calidad, equipos avanzados, tecnología innovadora, equipo profesional, adaptamos sus objetivos de pulverización necesarios.Puede decirnos todos sus requisitos y nos dedicamos a fabricar según sus necesidades.

Tipo y tamaño:

Objetivo de pulverización catódica de tantalio estándar ASTM B708, 99,95 % 3N5 - 99,99 % 4N de pureza, objetivo de disco

Composiciones químicas:

Análisis típico:Ta 99,95 % 3N5 - 99,99 %(4N)

Impurezas metálicas, ppm máx. por peso

Impurezas no metálicas, ppm máx. por peso

Equilibrio: Tantalio

Tamaño de grano: Tamaño típico <100 μm Tamaño de grano

Otro tamaño de grano disponible bajo pedido

Planitud: ≤0.2mm

Rugosidad de la superficie: <Ra 1,6 μm

Superficie: Pulido